设计研究后处理
研究开始运行后，Design Manager会在仪表板中安排相关的后处理元素。显示在仪表板中的后处理元素取决于研究类型。
- 设计输出表
- 基于设计状态的饼图。
- 所有帕累托排名中 Cl 和 Cd 的帕累托图。排名第 1 确定了竞争性目标的帕累托前沿（最大 Cl，最小 Cd）。
- 响应 Cl、Cd 和 Cl/Cd 的平行图。
- 第一个场景的快照 - MachNumberScalar。
在优化研究中求得的结果可能与下面显示的结果不同。执行帕累托优化研究时，Design Manager会使用随机种子点，评估每个设计，从结果中学习，并生成新的设计点，从而将求解导向优化设计。以下显示的结果仅用于说明。
默认平行图提供设计空间中设计响应的相关性。要显示设计输入参数的采样分布和相关性，修改平行坐标图如下：
- 右键单击节点，然后选择快速设置。
- 在数据集快速设置对话框中，单击轴数据选项旁边的选择...。
-
在对话框中，取消选择响应，然后选择输入参数节点下的所有后缘和前缘襟翼参数。
- 单击确定。
默认情况下，生成的平行坐标图仅包含最后一个帕累托循环中的设计。要包含绘图中的其他循环：
- 选择节点。
-
选择循环属性，然后单击
（自定义编辑器）。
-
在对话框中，右键单击空白区域，然后单击全选。
-
要最大化平行坐标图，右键单击仪表板上的 Cl_vs_Cd - 平行图并选择。
Design Manager将打开平行坐标图，显示整个帕累托优化过程中的参数采样：
- 保存设计管理器项目。